温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供了一种室绝缘部件和一种基底处理设备，所述基底处理设备包括：室，具有用于用等离子体处理基底的处理空间；基底支撑件，用于在所述室中支撑所述基底；以及绝缘板，设置在所述基底支撑件下方，以将所述基底支撑件与所述室电绝缘，其中，所述绝缘板包括：基...
该专利属于细美事有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。