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本发明公开了白钨矿发光材料的一种掺杂方法，属于材料的制备技术领域。其特征在于：通过后处理，在发光基质表面层内制造Ａ位空位－稀土离子再补位，从而合成出具有发光壳／核结构的材料，通过改变处理液的种类、浓度及处理时间，可以控制Ｒｅ３＋：ＡＭＯ４（...
该专利属于陈连平所有，仅供学习研究参考，未经过陈连平授权不得商用。

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