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用于晶片对准的不对称性扩展栅格模型制造技术
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下载用于晶片对准的不对称性扩展栅格模型的技术资料
文档序号:39654020
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提供用于校正被设置在衬底上的对准标记的检测位置且使用经校正的数据来对准所述衬底以确保对所述衬底上的一个或更多个图案的准确曝光的系统
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该专利属于ASML所有,仅供学习研究参考,未经过ASML授权不得商用。
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