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本发明公开了一种将ＧＤＳＩＩ文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法。首先将ＧＤＳＩＩ中的矢量图形统一转换为多边形，再将每层大图分解为一系列曝光区域。将曝光区域中的多边形利用四叉树图形分割法将其分解为矩形，再将一个曝光区域的图形存储为几个位图文...
该专利属于芯硕半导体（中国）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯硕半导体（中国）有限公司授权不得商用。

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