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本申请涉及半导体设备技术领域，具体涉及一种进气喷嘴及干法化学蚀刻设备，该进气喷嘴包括喷嘴本体，包括气体传输方向走向一致的第一气体传输通道和若干第二气体传输通道；第一出气口设置于所述喷嘴本体的底部中心位置，所述第一出气口为所述第一气体传输通道...
该专利属于宸微设备科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宸微设备科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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