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本发明公开了一种半导体存储装置，包括衬底、有源结构、浅沟渠隔离以及多个字线。有源结构设置于衬底内，并包括多个第一有源片段以及多个第二有源片段，各个第一有源片段以及各个第二有源片段相互平行地朝着第一方向延伸，第二有源片段设置在所有的第一有源片...
该专利属于福建省晋华集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省晋华集成电路有限公司授权不得商用。

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