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一种半导体结构及其形成方法，其中方法包括：提供衬底，所述衬底包括第一区，所述第一区衬底表面具有若干相互分立的第一初始鳍部结构，所述衬底上具有横跨所述第一初始鳍部结构的伪栅极结构；在所述衬底表面形成介质层，所述介质层覆盖伪栅极结构的侧壁表面且...
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