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本发明涉及半导体清洗设备技术领域，具体是涉及一种硅片清洗槽及具有该清洗槽的清洗设备，清洗槽包括槽体，槽体内设置有滑轨
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该专利属于恒超源洗净科技（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过恒超源洗净科技（深圳）有限公司授权不得商用。

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