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基板处理装置、半导体装置的制造方法以及存储介质制造方法及图纸
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文档序号:39412701
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本发明提供一种技术,通过按基板处理的步骤设定符合处理条件的基板位置,能够使基板质量接近均匀。上述技术具有:支承部,其能够支承至少1个基板;控制部,其具有存储制程的存储部,该制程能够设定所述基板的支承位置,在所述制程中,所述控制部能够对所述支...
该专利属于株式会社国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社国际电气授权不得商用。
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