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本实用新型涉及半导体加工技术领域，特别涉及一种静电吸盘陶瓷功能层及静电吸盘。一种静电吸盘陶瓷功能层，包括第一表层，具有相对的上表面及下表面；第二表层，布置于所述第一表层的上表面；金属层，设置于所述第一表层与所述第二表层之间；其中，所述第一表...
该专利属于艾希纳半导体科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾希纳半导体科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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