温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请提供一种类光栅结构金属电极制造方法和电极，用IBE离子束刻蚀设备发射第一粒子束以第一角度在掩膜版的遮掩下刻蚀金属层得到粗刻类光栅结构金属电极，用IBE离子束刻蚀设备发射第二粒子束以第二角度在掩膜版的遮掩下刻蚀粗刻类光栅结构金属电极以得...
该专利属于江苏鲁汶仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏鲁汶仪器股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。