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本公开提供一种导电网格的制备方法、薄膜传感器及其制备方法,属于电子器件技术领域。本公开的导电网格的制备方法,其包括:提供一介质基板;通过构图工艺,在所述介质基板上形成第一图案层;所述第一图案层具有网格状第一槽部;在所述第一图案层背离所述介质...该专利属于北京京东方技术开发有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京京东方技术开发有限公司授权不得商用。
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本公开提供一种导电网格的制备方法、薄膜传感器及其制备方法,属于电子器件技术领域。本公开的导电网格的制备方法,其包括:提供一介质基板;通过构图工艺,在所述介质基板上形成第一图案层;所述第一图案层具有网格状第一槽部;在所述第一图案层背离所述介质...