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本发明涉及一种含表面清洁剂的精抛液快速混配装置及其控制方法，所属硅片加工设备技术领域，包括快速混配组件，快速混配组件外侧设有与快速混配组件相连通的输送管路系统，快速混配组件外侧设有与输送管路系统相并联式连通的循环补液组件，快速混配组件下端与...
该专利属于杭州中欣晶圆半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州中欣晶圆半导体股份有限公司授权不得商用。

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