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一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底，所述基底包括第一区和第二区，第一区上和第二区上分别具有若干相互分立的初始复合结构，初始复合结构包括交替堆叠的若干初始牺牲层和若干初始沟道层；在第一区上的若干初始复合结构表面形成第一掺杂膜和第一隔离层...
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