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本实用新型公开了一种新型药槽，涉及晶片清洗装置技术领域，包括槽体，槽体下设有锥形漏斗，锥形漏斗与槽体连通；槽体内腔设有托架，托架可拆卸连接槽体，托架上设有若干第一漏孔，托架用于盛放晶片。本实用新型通过设置托架和在托架上设置漏孔，在清洗前后，...
该专利属于保定通美晶体制造有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过保定通美晶体制造有限责任公司授权不得商用。

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