温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种P沟道半导体器件及其制备方法，属于半导体技术领域，用于解决P沟道器件制备难度大的问题。本发明提供的P沟道半导体器件包括由沟道层和势垒层构成的外延体，势垒层自沟道层的第一垂直界面外延得到；沟道层包括自下向上排列的N型半导体层和P...
该专利属于广东致能科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东致能科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。