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为了提供具有高的成膜性和溶剂溶解性且能够应用湿式工艺，固化性、膜的耐热性、膜的耐蚀刻性、向台阶基板的埋入性以及膜的平坦性优异，对形成光致抗蚀剂下层膜有用的光刻用膜形成材料等，本公开的光刻用膜形成材料包含：具有键合于芳香环的氨基的化合物，该化...
该专利属于三菱瓦斯化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱瓦斯化学株式会社授权不得商用。

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