温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种温场稳定的加热炉，具体涉及冶金技术领域，包括基座，基座的顶部固定安装有加热炉主体，加热炉主体的顶部活动安装有顶盖，顶盖的表面连通有通风管，基座表面的一侧开设有开槽，开槽的内部固定安装有流动组件；本发明通过流动组件与测温组件的...
该专利属于大庆溢泰半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大庆溢泰半导体材料有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。