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一种高靶材利用率的矩形靶，用于磁控溅射金属镀膜；它的水冷座经绝缘板固定在靶基座上；四条钕铁硼永磁材料的边永磁体围成一个封闭的四边形框并嵌装在水冷座上，做为Ｎ极；一条钕铁硼永磁材料的中间永磁体位于四边形框中间并嵌装在水冷座上，做为Ｓ极；边永磁...
该专利属于中国电子科技集团公司第四十八研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第四十八研究所授权不得商用。

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