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本发明涉及光刻设备领域，公开了一种光刻设备的对准运动台和光轴Z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：晶圆设置标记点，视场中心对准标记点；晶圆移动时，获取晶圆的移动量
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该专利属于上海图双精密装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海图双精密装备有限公司授权不得商用。

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