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本发明提供一种修饰铁电薄膜表面的方法及得到的铁电薄膜，所述方法包括：在铁电薄膜表面修饰正离子或负离子，以在铁电薄膜表面构建与铁电薄膜的初始极化方向相反的表面电场。本发明在初始极化向上铁电薄膜表面修饰H
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该专利属于中国人民解放军空军军医大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军空军军医大学授权不得商用。

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