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本实用新型提供用于真空反应腔的抽气栅以及PECVD反应腔。所述用于真空反应腔的抽气栅包括长条状的本体以及多个贯穿本体、沿本体的长边并行排列的栅孔，所述栅孔的密度沿着本体长度方向从边缘向中部逐渐减小。所述PECVD反应腔包括位于腔顶的淋喷头以...
该专利属于理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司授权不得商用。

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