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本发明公开了一种真空条件下高低温控制系统，包括底座和真空室，还包括PLC、温度控制模块、继电器、电源、循环泵、散热风扇、散热片、半导体制冷片、底座、热电阻、旋转试样工装、加热板，所述导体制冷片设置在底座上，所述半导体制冷片底部设置有散热片，...
该专利属于北京交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京交通大学授权不得商用。

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