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本发明涉及一种呋塞米光照降解杂质的制备方法，具体制备步骤如下：步骤S1、取呋塞米置于反应容器内，将冰乙酸和乙腈水溶液作为稀释剂稀释至0.5～5mg/ml；步骤S2、将步骤S1所得混合液摇匀并置于光照强度为6000～8000Lx的光照箱内，照...
该专利属于遂成药业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过遂成药业股份有限公司授权不得商用。

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