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本发明涉及一种磁存储单元结构及存储器,该磁存储单元结构包括复合底电极,以及设置于复合底电极上的磁隧道结,磁隧道结包括层叠的反铁磁层、自由层、势垒层与参考层。复合底电极包括:第一重金属层;第一铁磁层,层叠于第一重金属层上;第二重金属层,层叠于...该专利属于致真存储(北京)科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过致真存储(北京)科技有限公司授权不得商用。
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