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一种循环渐进平坦化方法及用于该方法的半导体研磨清洁装置，该研磨清洁装置包括有一底座体以及三个设置于该底座体上的刷头元件，该底座体的两端接合所述刷头元件，而该底座体两端之间接合有一个刷头元件，其中该三个刷头元件位于同一平面，且接合于该底座体两...
该专利属于陈庆昌所有，仅供学习研究参考，未经过陈庆昌授权不得商用。

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