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本发明涉及种一种基于重离子掺杂的亚微米超结制造方法,器件结构包括漏电极、栅电极、源电极,第一导电类型重掺杂区、第二导电类型重掺杂区,第二导电类型柱区、第一导电类型柱区,第一导电类型阱区,第一介质栅氧化层、第二介质氧化层,第三介质氧化层。在N...该专利属于无锡用芯微电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡用芯微电子科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及种一种基于重离子掺杂的亚微米超结制造方法,器件结构包括漏电极、栅电极、源电极,第一导电类型重掺杂区、第二导电类型重掺杂区,第二导电类型柱区、第一导电类型柱区,第一导电类型阱区,第一介质栅氧化层、第二介质氧化层,第三介质氧化层。在N...