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本申请涉及用于光刻介质组合物的化合物、聚合物以及光刻介质组合物，该聚合物具有下述通式(1)所示的结构单元。本申请的化合物以及聚合物在溶解性和耐刻蚀性方面均具有优异的性能，兼顾耐刻蚀性的同时优化了其溶解性，非常适合作为耐刻蚀介质层材料。常适合...
该专利属于嘉庚创新实验室所有，仅供学习研究参考，未经过嘉庚创新实验室授权不得商用。

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