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本本申请提供一种B&S机台有机物沾污的监测方法，包括：提供一衬底，衬底上形成有多层介质层和接触孔；利用B&S机台形成金属阻挡层和金属种子层；对量测机台的腔室进行抽真空；形成金属主体层；去除超出接触孔顶端的金属...
该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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