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本实用新型涉及一种基于气相沉淀技术的真空反应腔体结构，包括真空腔体、支腿、第一进气管、第二进气管和排气管，所述真空腔体的顶部固定安装有第一电机，所述真空腔体的内部设置有搅拌装置，所述搅拌装置包括安装箱，所述安装箱的内部设置有丝杆，所述安装箱...
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