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本发明涉及用于干膜去除的剥离剂，在优选实施方案中是光致抗蚀剂剥离剂配制剂，包括：羟胺；水；溶剂，选自二甲基亚砜、Ｎ－甲基吡咯烷、二甲基乙酰胺、二丙二醇一甲基醚、单乙醇胺和它们的混合物；基料，选自氢氧化胆碱、单乙醇胺、氢氧化四甲基铵、氨基乙基...
该专利属于气体产品与化学公司所有，仅供学习研究参考，未经过气体产品与化学公司授权不得商用。

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