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本发明公开了一种测量高功率大型反射面天线EIRP的方法，涉及反射面天线性能测量的技术领域。本发明首先在待测天线辐射近场区的不同距离处，测量待测天线近区功率密度的大小；然后依据待测反射面天线的口面场分布函数，计算不同距离处轴向近区功率密度修正...
该专利属于中国电子科技集团公司第五十四研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第五十四研究所授权不得商用。

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