下载一种进气结构及气相沉积设备的技术资料

文档序号:38845707

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种进气结构及气相沉积设备,涉及气相沉积技术领域。该进气结构,包括进气主体、第一密封条和第二密封条,进气主体具有相对设置的两个加工端面,两个加工端面分别用于在进气主体内加工匀气槽和出气槽,第一密封条将匀气槽的槽口密封以形成匀气道,第二密封条...
该专利属于拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。