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本发明提供一种OPC建模方法。所述OPC建模方法中，先建立初版光学模型，利用所述初版光学模型对用于进行曝光实验的多个测试图形进行模拟仿真，去除NILS值低于一指定NILS值的所述测试图形，留下的所述测试图形作为待检测图形，在收集曝光实验形成...
该专利属于合肥晶合集成电路股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥晶合集成电路股份有限公司授权不得商用。

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