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本发明公开了一种大面积室温铁磁性钴掺杂二硫化钼薄膜的制备方法，首先将硅衬底在食人鱼溶液中浸泡清洗和干燥；将高纯(NH4)2MoS4和钴盐溶入N,N
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该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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