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本实用新型属于ALD镀膜技术领域，公开了出气板及进气装置。该出气板沿气体的输送方向设置于匀流板的下游，出气板开设有第一出气槽和第二出气槽，第一出气槽用于输出第一反应源，第二出气槽用于输出第二反应源，第一出气槽与第二出气槽不同时输出，至少部分...
该专利属于拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司授权不得商用。

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