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本发明提供了一种反射型光掩模坯，其能够抑制或减轻以极端紫外区域的波长的光作为光源的图案化转印用的反射型光掩模的投影效应，并且充分具有曝光时的耐热性。该反射型光掩模坯构成如下：具有基板(1)、形成在基板(1)上的包含多层膜的反射层(2)、以及...
该专利属于凸版光掩模有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过凸版光掩模有限公司授权不得商用。

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