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本发明涉及光刻模拟领域，特别是涉及一种掩膜版优化方法、装置、设备及计算机可读存储介质，通过接收目标版图；将所述目标版图进行OPC修正，得到待调掩膜；确定所述待调掩膜上各个相邻的边段间的错位距离；根据相邻的边段间的错位距离，确定处理组；所述处...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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