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本发明公开了一种基板单面和侧面清洗装置以及清洗方式、清洗流水线,上述的基板单面和侧面清洗装置包括腔室,腔室内具有密闭空间;旋转台面可转动的设于密闭空间内;支撑限位部设置在旋转台面上;顶升部设置在支撑限位部的下方,用于通过驱动支撑限位部将基板...该专利属于若名芯半导体科技(苏州)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过若名芯半导体科技(苏州)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种基板单面和侧面清洗装置以及清洗方式、清洗流水线,上述的基板单面和侧面清洗装置包括腔室,腔室内具有密闭空间;旋转台面可转动的设于密闭空间内;支撑限位部设置在旋转台面上;顶升部设置在支撑限位部的下方,用于通过驱动支撑限位部将基板...