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本发明公开了一种准周期微纳结构的图案化制备方法，包括以下步骤：1)在基底上制备光刻胶薄膜，再通过光刻工艺制作图案化光刻胶薄膜；2)在经步骤1)处理后的基底上沉积带有图形化光刻胶的导电薄膜，然后去除光刻胶，得带有图形化导电薄膜；3)在具有带有...
该专利属于西安交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安交通大学授权不得商用。

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