专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
美光科技公司
>
半导体装置和其形成方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载半导体装置和其形成方法的技术资料
文档序号:38636271
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开涉及一种半导体装置和其形成方法。一种设备包含:基底结构,其具有包含多个晶体管的第一部分和包围所述第一部分的第二部分;存储结构,其处于所述基底结构的所述第一部分上,所述存储结构包含多个存储电容器,每个存储电容器耦合到所述多个晶体管中的对...
该专利属于美光科技公司所有,仅供学习研究参考,未经过美光科技公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。