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本发明涉及一种含酞菁硅结构单元共轭聚合物的制备方法。它需要解决的技术问题是，提供一种光电功能，热、氧稳定性均有增加的共轭聚硅烷制备方法。本发明步骤：１）在Ｎ↓［２］保护，加入有机溶剂、助溶剂和钠砂的重量比为５～２０∶０．１～１∶１；２）在避...
该专利属于杭州师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过杭州师范大学授权不得商用。

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