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本申请提供一种自适应步长的光学临近效应矫正方法，包括：步骤一，目标图形的边缘切割；步骤二，移动步长的自适应；步骤三，对目标图形的循环优化，直至满足预设的精度要求。通过本申请，充分考虑复杂芯片设计版图的OPC矫正需求和图像内部光学临近效应影响...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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