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本发明公开了一种氮碳共渗镀膜一体化设备及氮碳共渗镀膜工件制备方法和应用。该设备包括氮碳共渗镀膜一体化设备本体、阴极罩、靶材挡板和工件架，氮碳共渗镀膜一体化设备本体上部形成真空腔室，氮碳共渗镀膜一体化设备本体下部形成共渗溅射腔，共渗溅射腔的内...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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