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一种提升电容的半导体阵列基板的制造方法，包括：依序在玻璃基板上沉积一层SiOx缓冲层；采用公共电极层光罩，搭配负型光阻，进行曝光显影制程；对显影后的位置进行干蚀刻，蚀刻掉未被光阻覆盖位置的SiOx；剥膜掉负型光阻；沉积像素电极层，并进行图案...
该专利属于华映科技（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华映科技（集团）股份有限公司授权不得商用。

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