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本发明涉及铟锡氧化物薄膜、其制法及包含其的光吸收元件，具体地，本发明提供的铟锡氧化物薄膜的制法包含步骤(a)：提供一铟锡氧化物靶材；及步骤(b)：在一混合气体中溅镀该铟锡氧化物靶材，以获得该铟锡氧化物薄膜；该混合气体包含氩气及一添加气体，该...
该专利属于光洋应用材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光洋应用材料科技股份有限公司授权不得商用。

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