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本实用新型公开了一种半导体器件用微纳米粉体镀膜设备，包括真空腔室、设置在真空腔室中的磁控溅射装置以及与真空腔室连接的真空系统，还包括设置在真空腔室中的多边形镀膜滚筒和转动支架，所述多边形镀膜滚筒和转动支架均与真空腔室内壁转动连接，还包括电机...
该专利属于湖南辰皓真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南辰皓真空科技有限公司授权不得商用。

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