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本发明公开了一种等离子体产生方法及装置，方法包括以下步骤：(1)设置一基底层，在所述基底层上设置第一膜层，将所述基底和第一膜层进行固定；(2)在所述第一膜层上，设置至少一通液蛇形沟道。设置第二膜层，在所述第二膜层靠近所述隔气薄膜的一侧设置通...
该专利属于南方科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过南方科技大学授权不得商用。

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