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一种薄膜晶体管有源层材料制造技术
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文档序号:38533905
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一种薄膜晶体管有源层材料包括:半导体主体以及掺杂源,半导体主体的材料为非晶金属氧化物材料,掺杂源用于对非晶金属氧化物材料掺杂,掺杂源的掺杂元素包括氢元素以及氟元素,有源层材料的含氧量大于含氢量与含氟量之和,含氢量大于含氟量。本申请通过对非晶...
该专利属于北京大学深圳研究生院所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学深圳研究生院授权不得商用。
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