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本实用新型属于半导体加工技术领域，提供了一种设置有多吸附区吸盘的纳米压印装置及半导体设备，包括：位移台,设置有用于基片定位的定位件；压印组件，架设于位移台上方并用于模片与基片的贴合，压印组件包括设置有多个吸附区的上吸盘，以及与多个吸附区相贯...
该专利属于深圳市雕拓科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市雕拓科技有限公司授权不得商用。

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